文/夏峰琳 編輯/徐喆

近期，光刻機(jī)相關(guān)概念股備受資本市場(chǎng)關(guān)注。9月14日，蘇大維格（300331.SZ）在互動(dòng)平臺(tái)表示， “公司光刻機(jī)已實(shí)現(xiàn)向國內(nèi)龍頭芯片企業(yè)的銷售，并已實(shí)現(xiàn)向日本、韓國、以色列等國家出口?！彪S即點(diǎn)燃市場(chǎng)情緒，午后開盤股價(jià)迅速拉升，并實(shí)現(xiàn)20%漲停。

隨后蘇大維格做出澄清，表示公司出貨并非如ASLM的EUV掩摸光刻機(jī)，而是激光直寫光刻機(jī)。業(yè)內(nèi)人士分析表示，激光直寫光刻機(jī)可用于掩膜版的制造，芯片制造中的光刻機(jī)是極紫外光（EUV）作為光源的光刻機(jī)。

盡管同為“光刻機(jī)”，卻謬之千里，上市公司在公開平臺(tái)未能清晰表述導(dǎo)致股價(jià)異動(dòng)，難免對(duì)市場(chǎng)存在誤導(dǎo)。

9月15日，蘇大維格收到深交所下發(fā)的關(guān)注函。不過，難擋投資者熱情，雖低開6.43%，但盤中一度摸高至38.78元，漲幅達(dá)17.09%。隨后震蕩回調(diào)，截至收盤，報(bào)35元，上漲13.13%。

“光刻機(jī)”出貨，公司股價(jià)20CM漲停

光刻機(jī)被業(yè)界譽(yù)為集成電路產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠，研發(fā)的技術(shù)門檻和資金門檻非常高。光刻機(jī)EUV（極紫外）光刻機(jī)、DUV（深紫外）光刻機(jī)。此外，更早也有i線和g線光刻機(jī)。上述均屬于較為先進(jìn)的半導(dǎo)體光刻機(jī)。除了半導(dǎo)體用，光刻機(jī)也用于面板、PCB（印刷電路板）的制造中。

隨著芯片工藝的先進(jìn)化，電路設(shè)計(jì)圖日益精細(xì)和復(fù)雜，所需要的光刻精度也就越來越高，研發(fā)光刻機(jī)的技術(shù)要求、生產(chǎn)成本和生產(chǎn)難度都直線上升。迄今為止，世界上能自主研發(fā)和制造光刻機(jī)的廠商依然寥寥無幾。

因而當(dāng)蘇大維格稱，公司光刻機(jī)以實(shí)現(xiàn)向國內(nèi)龍頭芯片企業(yè)的銷售，并已實(shí)現(xiàn)向日本、韓國、以色列等國家出口時(shí)，市場(chǎng)立刻被引爆，公司股價(jià)當(dāng)日錄得漲停板。

與此同時(shí)，也有投資者也追問：“公司光刻設(shè)備對(duì)比全世界同行業(yè)處于什么階段？未來有沒有和國內(nèi)同行合作研發(fā)制造光刻機(jī)計(jì)劃？”

對(duì)此，蘇大維格也在互動(dòng)平臺(tái)表示，光刻機(jī)主要有兩種類型。第一類是掩摸光刻機(jī)，如ASLM的EUV設(shè)備，好比“復(fù)印機(jī)”，把掩摸上的圖形投射到硅片上，可用于各類芯片的批量生產(chǎn)，這類光刻機(jī)技術(shù)工藝和材料難度極高；第二類是無掩摸光刻機(jī)，也稱直寫光刻機(jī)，包括激光直寫光刻機(jī)和電子束光刻機(jī)等，用于直接將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)變成相關(guān)圖形，好比“打印機(jī)”，可用于芯片/液晶掩摸、光模具及其他微結(jié)構(gòu)的制備。

目前，公司對(duì)外銷售的光刻機(jī)主要為激光直寫光刻機(jī)，其中在科研教育領(lǐng)域具有一定的知名度和市場(chǎng)占有率，在其他行業(yè)和領(lǐng)域已實(shí)現(xiàn)的銷售金額相對(duì)較小，部分應(yīng)用領(lǐng)域離國際先進(jìn)水平具有一定差距，需要持續(xù)的研發(fā)投入。

蘇大維格進(jìn)一步解釋稱，DUV和EUV在生產(chǎn)芯片過程中使用的掩摸板，需要直寫光刻機(jī)機(jī)型進(jìn)行制造。另據(jù)公司半年報(bào)，蘇大維格光刻設(shè)備已實(shí)現(xiàn)向國內(nèi)某芯片龍頭企業(yè)實(shí)現(xiàn)銷售，并向國內(nèi)廠商提供應(yīng)用于IC芯片投影式光刻機(jī)的核心部件定位光柵尺產(chǎn)品。

財(cái)務(wù)數(shù)據(jù)顯示，2023年上半年，蘇大維格實(shí)現(xiàn)營收為7.88億元，較上年同期下滑10.47%。歸母凈利潤(rùn)方面僅1217.69萬元，因去年同期基數(shù)僅137.66萬元，同比增幅達(dá)784.54%。

對(duì)此，深交所也要求蘇大維格結(jié)合不同類型光刻設(shè)備的技術(shù)路線的差異，補(bǔ)充披露公司所生產(chǎn)光刻設(shè)備的具體類型、主要客戶及下游用途、以及最近一年一期境內(nèi)外銷售情況，并核實(shí)說明公司光刻設(shè)備是否能夠直接用于芯片研發(fā)及制造、主要技術(shù)參數(shù)是否與業(yè)內(nèi)龍頭廠商存在較大差距，并進(jìn)一步提示相關(guān)風(fēng)險(xiǎn)。

“納米壓印”實(shí)驗(yàn)室已實(shí)現(xiàn)10+nm

蘇大維格在互動(dòng)平臺(tái)還提及“納米壓印”技術(shù)。在回復(fù)“納米壓印技術(shù)有沒有替代EUV光刻機(jī)的可能性”時(shí)，蘇大維格稱：“根據(jù)相關(guān)資訊，佳能等國際廠商擬試圖通過納米壓印技術(shù)在部分集成電路領(lǐng)域替代EUV光刻設(shè)備實(shí)現(xiàn)更低成本的芯片量產(chǎn)?！?

關(guān)于納米壓印技術(shù)能否替代EUV光刻機(jī)，中國豪宅研究院院長(zhǎng)城市運(yùn)營專家朱曉紅向觀察者網(wǎng)表示：“納米壓印技術(shù)在一定程度上可以替代傳統(tǒng)光刻技術(shù)。該項(xiàng)技術(shù)可通過直接對(duì)待刻制表面施加力、壓力或應(yīng)力，將圖案?jìng)鲗?dǎo)到硅芯片上，可實(shí)現(xiàn)微米和納米級(jí)別的圖形轉(zhuǎn)移。目前，該技術(shù)在柔性顯示、納米光電子設(shè)備制造等領(lǐng)域已具備商業(yè)應(yīng)用，但在集成電路和芯片制造領(lǐng)域的應(yīng)用還處于初級(jí)階段，仍需進(jìn)一步完善和發(fā)展。”

與非網(wǎng)副主編夏珍在接受媒體對(duì)話時(shí)則表示：“納米壓印可潛在替代EUV、DUV。當(dāng)DUV（技術(shù)）再往下走，日本廠商并沒有選擇EUV，而是采用了‘納米壓印’（Nanoimprint Lithography，NIL）技術(shù)，來開發(fā)新一代的設(shè)備。納米壓印技術(shù)和現(xiàn)在市場(chǎng)上的光刻技術(shù)有所不同?；诠鈱W(xué)的曝光機(jī)，也就是我們常說的光刻機(jī)，從Reticle（掩膜版）到晶圓是4：1的縮小比例，而納米壓印技術(shù)下的Reticle選用特殊加工方法，從Reticle到晶圓是等比例的。這意味著只要Reticle能做到5nm，就能壓印出5nm的東西?！?

夏珍還進(jìn)一步介紹稱：“目前基于納米壓印技術(shù)的設(shè)備還沒量產(chǎn)，處于量產(chǎn)評(píng)價(jià)階段，但從實(shí)驗(yàn)室的角度來看，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了10+nm，未來將進(jìn)一步拓展至5nm。”

另外，蘇大維格也表示：“納米壓印光刻領(lǐng)域，公司設(shè)備主要為自用，對(duì)外銷售金額與直寫光刻機(jī)相比較?。慌c此同時(shí)，公司也開發(fā)了投影掃描的光刻設(shè)備，擬應(yīng)用于光伏電鍍銅圖形化領(lǐng)域，目前尚未實(shí)現(xiàn)銷售?！?

對(duì)此，深交所要求蘇大維格說明：“公司納米壓印技術(shù)的具體用途、研發(fā)情況，以及在集成電路領(lǐng)域的布局情況，并充分提示相關(guān)風(fēng)險(xiǎn)?！?

除此之外，深交所還要求蘇大維格核實(shí)說明公司控股股東、實(shí)際控制人，董事、監(jiān)事、高級(jí)管理人員及其直系親屬、持股5%以上股東近1個(gè)月買賣公司股票的情況，未來3個(gè)月內(nèi)是否存在減持計(jì)劃，自查并說明你公司是否存在主動(dòng)迎合市場(chǎng)熱點(diǎn)炒作公司股價(jià)、配合相關(guān)股東減持的情形。

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