【文/觀察者網(wǎng) 呂棟】

極紫外光刻機(jī)（EUV）是芯片工藝向7nm以下發(fā)展必不可少的工具，平均每臺售價超過12億元人民幣。

中芯國際需要借助EUV制造更先進(jìn)的芯片，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）也希望賣出更多的設(shè)備來攤薄研發(fā)成本。但由于美國從中作梗，雙方一直無法完成交易。

“出口管制將加快中國自主研發(fā)，15年時間里他們將做出所有的東西”、“中國完全自主掌控供應(yīng)鏈之后，歐洲供應(yīng)商將徹底失去市場”，盡管阿斯麥CEO溫彼得接連表達(dá)焦慮，但美國依舊選擇視而不見。

據(jù)美媒《華爾街日報》7月17日報道，一位美國官員透露，拜登政府在確認(rèn)EUV光刻機(jī)在科技產(chǎn)業(yè)中的戰(zhàn)略價值后，選擇延續(xù)特朗普時期的政策。白宮官員已與荷蘭政府進(jìn)行接觸，并以國家安全為由要求荷蘭方面限制向中國大陸出售EUV。

報道披露，拜登正式就職還不到一個月，其國家安全顧問杰克·沙利文已就“在先進(jìn)技術(shù)方面的密切合作”與荷蘭方面進(jìn)行交談。美國官員透露，繼續(xù)限制阿斯麥與中國大陸的合作，是沙利文的首要任務(wù)。

目前，全世界只有阿斯麥一家企業(yè)可以生產(chǎn)EUV光刻機(jī)。在全球范圍內(nèi)，無論是美國的英特爾、韓國的三星，還是中國臺灣的臺積電，都可以自由購買重達(dá)180噸的EUV去制造高端電子設(shè)備的芯片。

但在美國壓力下，荷蘭政府一直沒有批準(zhǔn)向中國大陸出口EUV。

美國對荷蘭政府的施壓早在特朗普任期內(nèi)便已開始。據(jù)時任美國總統(tǒng)副國家安全顧問的查爾斯·庫珀曼（Charles Kupperman）回憶，他2019年曾邀請荷蘭外交官前往白宮，并向后者施壓，稱“忠實的盟友”不會向中國大陸出售EUV這類設(shè)備。庫珀曼還警告荷蘭方面，如果沒有美國的零部件，阿斯麥的設(shè)備就無法運(yùn)轉(zhuǎn)，而白宮有權(quán)限制這些零部件向荷蘭出口。

報道援引知情人士稱，限制向荷蘭出口技術(shù)目前并不在白宮的討論范圍內(nèi)。但美國正試圖召集西方國家的聯(lián)盟，就出口管制問題進(jìn)行合作。此舉可能對EUV光刻機(jī)以外的領(lǐng)域產(chǎn)生影響，進(jìn)一步攪亂世界各地本已承壓的半導(dǎo)體供應(yīng)鏈。

阿斯麥NXE3400極紫外光刻機(jī)內(nèi)部結(jié)構(gòu) 圖片來源：公司官網(wǎng)

阿斯麥財報披露，過去的2020年，該公司在中國大陸的營收和出貨量均創(chuàng)下歷史新高。2021年一季度，阿斯麥共向中國大陸出貨光刻系統(tǒng)約11臺，占比15%在全球排名第三（前兩名是韓國和中國臺灣），但這其中并沒有EUV。

在阿斯麥CEO溫彼得看來，美國的出口管制措施可能會適得其反。

“當(dāng)涉及有針對性的、具體的國家安全問題時，出口管制是一種有效的工具，”溫彼得在一份聲明中表示，“然而，作為更廣泛的國家半導(dǎo)體領(lǐng)導(dǎo)戰(zhàn)略的一部分，政府需要考慮如果這些工具過度使用，會如何通過減少研發(fā)投入來減緩中期創(chuàng)新?！彼€補(bǔ)充稱，在中短期內(nèi)，過度使用出口管制可能會減少全球芯片制造產(chǎn)能，并加劇供應(yīng)鏈問題。

一直未批準(zhǔn)向中國大陸出口EUV，也讓中荷關(guān)系出現(xiàn)裂痕?！度A爾街日報》援引所謂知情人士稱，中方官員時常會詢問荷蘭政府，“為什么不授予阿斯麥將設(shè)備運(yùn)往中國大陸的許可”。

去年1月，中國駐荷蘭大使館發(fā)言人曾指出，中方堅決反對任何第三方對荷蘭政府施加政治壓力，迫使荷方違背自身利益作出決定。這必將導(dǎo)致對各方都不利的后果，也必將對國際貿(mào)易秩序帶來負(fù)面影響。

中國駐荷蘭大使館網(wǎng)站截圖

盡管光刻機(jī)是半導(dǎo)體設(shè)備中的一個難點(diǎn)，但中國大陸一直沒有放棄自主研發(fā)。

2020年6月，方正證券在一份研報中提到：“在國家02專項光刻機(jī)項目二期中，設(shè)定的時間為2020年12月驗收193nmArF浸沒式DUV光刻機(jī)，其制程工藝為28納米，對標(biāo)產(chǎn)品為ASML現(xiàn)階段最強(qiáng)DUV光刻機(jī)：TWINSCANNXT:2000i。以NXT:2000i為例，各子系統(tǒng)拆分如下：上海微電子負(fù)責(zé)光刻機(jī)設(shè)計和總體集成，北京科益虹源提供光源系統(tǒng)，北京國望光學(xué)提供物鏡系統(tǒng)，國科精密提供曝光光學(xué)系統(tǒng)，華卓精科提供雙工作臺，浙江啟爾機(jī)電提供浸沒系統(tǒng)。”

今年6月8日，英國科技媒體“VERDICT”在一篇報道中稱，上海微電子計劃在今年底推出一臺國產(chǎn)28nm DUV光刻機(jī)，并在上海的一條專有生產(chǎn)線上為物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備制造48nm和28nm芯片。該報道還提到，上海微電子管理層近期表示，提高48nm和28nm的良率仍然是一個挑戰(zhàn)，但該公司現(xiàn)在擁有基本的自主光刻技術(shù)能力，無需美國IP來制造芯片。

VERDICT評論稱，現(xiàn)在評估中國企業(yè)在光刻機(jī)領(lǐng)域改變市場規(guī)則還為時過早，但是上海微電子已經(jīng)在一個極其困難的技術(shù)領(lǐng)域取得突破。

不過，VERDICT并未透露具體信息來源。

市場調(diào)研機(jī)構(gòu)CINNO Research分析師向觀察者網(wǎng)表示，目前了解到的信息是，光刻機(jī)研發(fā)難點(diǎn)中對進(jìn)度影響最大的部分是光源和物鏡，分別來自北京的科益虹源和國望光學(xué)。其中又以物鏡為最難，與德、日還有多年技術(shù)經(jīng)驗積累差距，短時間內(nèi)趕上相當(dāng)不易。此外，為提高子系統(tǒng)和零部件自主化程度，反制美方“卡脖子”，整個系統(tǒng)還需要更多時間來完善。

VERDICT報道截圖

7月14日，上海市政府發(fā)布《上海市先進(jìn)制造業(yè)發(fā)展“十四五”規(guī)劃》。其中提到，“十四五”時期將加強(qiáng)裝備材料創(chuàng)新發(fā)展，突破光刻設(shè)備、刻蝕設(shè)備、薄膜設(shè)備、離子注入設(shè)備、濕法設(shè)備、檢測設(shè)備等集成電路前道核心工藝設(shè)備。

也許是看到中國在突破半導(dǎo)體設(shè)備方面的決心，阿斯麥CEO溫彼得今年4月曾向美國喊話，“如果你采取出口管制措施將中國市場拒之門外，這將迫使他們爭取技術(shù)主權(quán)（tech sovereignty），就其真正的技術(shù)主權(quán)而言……在15年的時間里，他們自己將能夠做出所有的這些東西，而且他們的市場（針對歐洲供應(yīng)商的市場）將徹底消失。”

而《華爾街日報》認(rèn)為，中國追上阿斯麥的光刻機(jī)技術(shù)至少需要10年。

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