最后來(lái)聊聊收集鏡，這個(gè)形如一口炒鍋的凹面鏡原理一目了然，是用來(lái)聚攏EUV光，而其技術(shù)難點(diǎn)則在于，絕大部分物質(zhì)對(duì)這個(gè)波段電磁波都存在強(qiáng)吸收作用，因此需要制備特殊的多層膜鏡子，才能實(shí)現(xiàn)足夠高反射率。

以目前實(shí)用化的多層鉬硅鍍膜為例，每層膜的厚度大概只有3-5個(gè)納米，在大尺寸基底上鍍膜誤差要控制在單個(gè)原子量級(jí)，交替鍍上數(shù)十層才能滿足技術(shù)要求，其工藝難度可想而知。

在流行敘事里，EUV收集鏡和采用同樣技術(shù)的反射式物鏡只有德國(guó)蔡司能夠制造，這同樣是一個(gè)明顯的偏見(jiàn)，在歐洲多層膜科研領(lǐng)域，俄羅斯科學(xué)院微結(jié)構(gòu)物理研究所（IPM）就堪稱支柱力量，ASML早期EUV研究中，IPM為其提供了多種關(guān)鍵光學(xué)器件。

（IPM為ASML制造的部分光學(xué)元件）

相比起光刻光源和前面提到的反射式物鏡系統(tǒng)，工件臺(tái)是俄羅斯較為薄弱的領(lǐng)域，但位于白俄羅斯的東歐最大半導(dǎo)體設(shè)備公司Planar則有望提供支持，該公司總經(jīng)理就曾表示，由于內(nèi)部配套完整，其光刻設(shè)備對(duì)西方國(guó)家的依賴并不嚴(yán)重，甚至有些技術(shù)在全球處于領(lǐng)先地位：“一個(gè)例子是靈敏度高達(dá)0.6–0.15nm的干涉式線性位移傳感器，除了我們之外，只有一家美國(guó)公司生產(chǎn)這種傳感器，而且并不向所有國(guó)家供應(yīng)”。

從以上梳理不難看出，俄羅斯在EUV光刻光源核心技術(shù)上，的確已經(jīng)擁有了一定基礎(chǔ)，相關(guān)科研機(jī)構(gòu)在ASML所動(dòng)員起來(lái)的泛歐EUV攻關(guān)網(wǎng)絡(luò)中有著長(zhǎng)期而深入的參與。

當(dāng)然不可否認(rèn)，其各項(xiàng)技術(shù)產(chǎn)業(yè)化水平還不高，更多停留在基礎(chǔ)研究和樣件試制階段，在做出自主研發(fā)EUV光刻機(jī)的決策后，把理論落實(shí)到工程無(wú)疑還有很長(zhǎng)的路要走，不過(guò)俄羅斯的努力，依然值得我們密切關(guān)注與借鑒。

對(duì)于高端光刻機(jī)攻關(guān)，不少人抱有著一種樸素的信念：既然ASML已經(jīng)為我們證明了LPP-EUV技術(shù)路線走得通，就好像一道別人已經(jīng)解出來(lái)的難題，作為亦步亦趨的后來(lái)者只要資源投入足夠多，再?gòu)?fù)雜的工程問(wèn)題也總能解決。

這樣的想法，確實(shí)在大部分情況下都是成立的，看看發(fā)達(dá)國(guó)家工業(yè)“皇冠”上越來(lái)越稀少的“明珠”，學(xué)習(xí)消化再創(chuàng)新的效果毋庸置疑。但與此同時(shí)，集成電路、工業(yè)軟件、量測(cè)儀器等領(lǐng)域存在的“卡脖子”現(xiàn)象足以提醒我們，某些對(duì)于基礎(chǔ)理論積累要求很高的環(huán)節(jié)，“理論不夠工程來(lái)湊”也有局限性，原理理解不充分的情況下，工程成本、進(jìn)度乃至最終結(jié)果將面臨巨大不確定性。

反觀俄羅斯，依托其在高能激光、等離子體物理基礎(chǔ)研究上的積累，該國(guó)在EUV（軟X射線）光刻機(jī)研發(fā)上選擇了一條頗具特色和“章法”的新路。

根據(jù)目前所能獲得的信息，莫斯科國(guó)立電子技術(shù)大學(xué)（MIET）將承擔(dān)所謂的“基于同步加速器和/或等離子體源無(wú)掩模X射線光刻機(jī)”研發(fā)任務(wù)。

或許你會(huì)感到奇怪，為什么一家大學(xué)能夠成為“國(guó)之重器”的項(xiàng)目抓總單位？

原因其實(shí)并不復(fù)雜，MIET長(zhǎng)期扎根在號(hào)稱蘇聯(lián)硅谷的澤列諾格勒科學(xué)城，早已成為當(dāng)?shù)匚㈦娮赢a(chǎn)學(xué)研用生態(tài)的核心樞紐，其創(chuàng)建的公共科研平臺(tái)“集體使用中心”，號(hào)稱可服務(wù)電子元件和ICT產(chǎn)品從創(chuàng)意到上市的完整周期。

順帶一提，早在2010年代，無(wú)掩模光刻獨(dú)角獸荷蘭Mapper公司就已經(jīng)通過(guò)其股東Rusnano牽線，向澤列諾格勒轉(zhuǎn)移了無(wú)掩膜光刻機(jī)核心部件—MEMS可編程微鏡陣列的制造技術(shù)。盡管2019年Mapper被ASML搶先收購(gòu)，但完全可以想見(jiàn)，相關(guān)專有知識(shí)已經(jīng)在俄羅斯完成了吸收消化。

至于光刻光源，ISAN和IPM則提出了不同的備選方案，前者基于其LPP-EUV技術(shù)積累，自然想走ASML的“王道”路線，而IPM則基于對(duì)多層膜技術(shù)的創(chuàng)新，正積極推動(dòng)11.2納米技術(shù)方案（釕鈹多層鏡+氙氣工質(zhì)），在該所專家看來(lái)，盡管氙源的極紫外光轉(zhuǎn)化效率不高，光源輸出功率天然受限，但由于從物鏡到光源的系統(tǒng)復(fù)雜度極大下降，光刻設(shè)備采購(gòu)維護(hù)成本都會(huì)很低，因此仍極具實(shí)用價(jià)值。

從技術(shù)思路上來(lái)評(píng)價(jià)，采用無(wú)掩膜光刻，意味著物鏡系統(tǒng)可以得到很大簡(jiǎn)化，EUV光反射次數(shù)更少，損耗自然更小，連帶著對(duì)光源輸出功率的要求也可以放寬，因此無(wú)論選擇錫源的傳統(tǒng)方案還是氙源創(chuàng)新方案，至少ASML在提升光源功率和可維護(hù)性上耗費(fèi)的天量資金、十余年時(shí)間以及積累的大量獨(dú)家knowhow有希望被繞開(kāi)。

單憑這一條，是不是已經(jīng)足夠有搏一搏的價(jià)值了？

透過(guò)EUV光刻機(jī)這個(gè)案例，也不難體會(huì)當(dāng)下我們輿論場(chǎng)上的一種怪現(xiàn)象，那就是很多科技問(wèn)題的討論雖然觀點(diǎn)各異，但雙方基于的基礎(chǔ)信息往往源頭都來(lái)自歐美特定媒體，在這個(gè)并不中立的信息“哈哈鏡”里，俄羅斯科技實(shí)力顯然被過(guò)度貶低了，以至于一種"不靠譜"的刻板印象大行其道。

除了在英語(yǔ)世界中被有意無(wú)意妖魔化、邊緣化的形象，另一方面，俄羅斯科學(xué)界也長(zhǎng)期流行著內(nèi)向作風(fēng)。

一份2019年的研究報(bào)告顯示，俄羅斯科研工作者在國(guó)內(nèi)期刊上發(fā)表論文的比例遠(yuǎn)高于主要科技強(qiáng)國(guó)平均水平，對(duì)“SCI至上”的理念似乎無(wú)動(dòng)于衷，乃至于“盡管俄羅斯研究人員撰寫(xiě)英文論文，但他們似乎經(jīng)常將論文發(fā)表在俄羅斯的地方性出版物，而不是國(guó)際期刊上”。

當(dāng)然，俄羅斯這種相對(duì)孤立的科研現(xiàn)狀，歸根結(jié)底還是因?yàn)槿鄙倌軌驅(qū)⒀芯砍晒罅哭D(zhuǎn)化的實(shí)體產(chǎn)業(yè)，由于人口與區(qū)位稟賦等種種原因，俄羅斯面向國(guó)際市場(chǎng)的大規(guī)模制造業(yè)始終沒(méi)有得到很好發(fā)展，因此遲遲未能形成從研究到市場(chǎng)的順暢循環(huán)。

不過(guò)盡管如此，除了EUV光刻機(jī)幾大關(guān)鍵核心技術(shù)，俄羅斯在更廣泛的激光產(chǎn)業(yè)、航空航天、新材料、工業(yè)軟件上，仍然還有不少具備世界級(jí)水平的好東西，其中相當(dāng)部分正處于當(dāng)下中國(guó)產(chǎn)業(yè)界著力突圍的“卡脖子”環(huán)節(jié)。

就拿CAD/CFD/EDA等設(shè)計(jì)仿真驗(yàn)證類軟件來(lái)說(shuō)吧，這類工業(yè)軟件目前普遍被海外巨頭高度壟斷，國(guó)內(nèi)企業(yè)面臨的競(jìng)爭(zhēng)格局甚至比半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)還要嚴(yán)峻。而在這一領(lǐng)域，憑借著深厚的數(shù)學(xué)傳統(tǒng)和人才儲(chǔ)備，俄羅斯早已成為全球產(chǎn)業(yè)生態(tài)的重要節(jié)點(diǎn)之一。俄羅斯LEDAS公司的幾何約束求解引擎早被達(dá)索公司采用，將之整合在CATIA V5中。至于收購(gòu)俄羅斯研究團(tuán)隊(duì)或者在俄羅斯設(shè)立研發(fā)中心，更是幾乎所有歐美工業(yè)軟件巨頭的基本操作。

（Mentor(后西門(mén)子EDA)的MAD部門(mén)就有著濃厚的俄羅斯血統(tǒng)）

相比之下，我國(guó)科技界、產(chǎn)業(yè)界對(duì)俄羅斯的認(rèn)識(shí)，似乎還普遍有所滯后，以至于在一篇分析中俄科技創(chuàng)新合作風(fēng)險(xiǎn)挑戰(zhàn)的權(quán)威文章中，作者憂心地指出：“俄羅斯在基礎(chǔ)研究、核能技術(shù)、空間科學(xué)技術(shù)、新材料、生物技術(shù)等眾多領(lǐng)域擁有雄厚實(shí)力并取得了令人矚目的成績(jī)，但我國(guó)某些產(chǎn)業(yè)界，甚至科技界本身對(duì)俄羅斯科技水平都缺乏足夠認(rèn)識(shí)和應(yīng)有評(píng)價(jià)，存在貶低俄羅斯科技實(shí)力而盲目推崇西方的傾向，在尋求科技合作伙伴時(shí)，往往優(yōu)先考慮美、歐、日，對(duì)俄羅斯卻不予重視，常常多方尋覓無(wú)果后才把目光轉(zhuǎn)向俄羅斯，貽誤了合作時(shí)機(jī)”。

值得注意的是，隨著俄烏沖突爆發(fā)，俄羅斯科技界正常的國(guó)際交流活動(dòng)遭到了全面圍堵打壓，從奧數(shù)競(jìng)賽到學(xué)術(shù)會(huì)議，“將俄羅斯科學(xué)與國(guó)際合作隔離的企圖將反映在所有指標(biāo)中”，當(dāng)數(shù)百名俄羅斯科學(xué)家被從歐洲核子研究中心（CERN）驅(qū)逐，標(biāo)志著這種歇斯底里的惡意達(dá)到了頂點(diǎn)。

但也正是在這種刺激下，俄羅斯科學(xué)研究與高技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展，似乎正煥發(fā)出新的氣象，或者說(shuō)，重新喚起一種斯拉夫民族的堅(jiān)強(qiáng)韌性。在工業(yè)母機(jī)、關(guān)鍵軟件等領(lǐng)域，俄羅斯國(guó)產(chǎn)替代工作業(yè)已全面鋪開(kāi)。

EUV光刻機(jī)，正是這一浪潮的小小縮影。

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