【文/觀察者網 呂棟】在昨日（7月29日）A股反彈行情中，半導體概念齊掀漲停潮，其中光刻膠指數更是大漲近10%領跑所有板塊。光刻膠個股中，南大光電收漲20%，晶瑞股份收漲14%，上海新陽收漲11%。

昨天下午收盤后，南大光電發(fā)布公告稱，該公司承擔的國家02專項ArF光刻膠項目通過專家組驗收，這種光刻膠可用于90nm-14nm甚至7nm技術節(jié)點的集成電路制造工藝，已建成年產25噸產業(yè)化基地。

不過，南大光電也提示風險稱，目前ArF光刻膠產品尚未實現規(guī)模化量產。ArF光刻膠的復雜性決定了其在穩(wěn)定量產階段仍然存在工藝上的諸多風險，后續(xù)是否能取得下游客戶的大批量訂單，能否大規(guī)模進入市場仍存在較多的不確定性。

今天（7月30日）南大光電高開逾1%，隨后快速拉升，截至發(fā)稿漲幅擴大至14.21%，市值325億元。

7月29日A股板塊漲幅情況

7月29日，南大光電公告披露，該公司作為牽頭單位，承擔的國家科技重大專項（02專項）“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”之“先進光刻膠產品開發(fā)與產業(yè)化”項目，收到極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝實踐管理辦公室下發(fā)的項目綜合績效評價結論書，項目通過了專家組驗收。

南大光電公告截圖

在集成電路制造領域，不同波長光源的光刻機需要搭配相應波長的光刻膠進去光刻。目前半導體光刻膠最常使用曝光波長分類，主要有g線、i線、KrF、ArF和最先進的EUV（極紫外）光刻膠。其中，DUV（深紫外）光刻機分為干法和浸潤式，所以ArF光刻膠也對應分為干法和浸潤式兩類。越先進制程相應需要使用越短曝光波長光刻膠，以達到特征尺寸微小化。

根據公告，南大光電承擔的02專項光刻膠項目總體目標是開發(fā)高端集成電路制造用ArF干式與浸沒式光刻膠成套工藝技術，形成規(guī)模化生產能力；構建與集成電路行業(yè)國際先進水平接軌的技術和管理人才團隊，建立完善的技術開發(fā)、生產運行、品質管理、市場開拓運行體系和ArF光刻膠產業(yè)自主發(fā)展相應的知識產權體系。

該項目分為三個子課題，其中南大光電控股子公司寧波南大光電材料有限公司 （下稱：寧波南大光電）承接的課題名為：ArF 光刻膠產品的開發(fā)和產業(yè)化（課題編號：2018ZX02402001）。該子課題主要在以下方面開展研究：

1、ArF光刻膠產品配方及工藝的開發(fā)；

2、配方關鍵組分材料的開發(fā)；

3、ArF光刻膠產品及關鍵組分的分析測試能力的研究；

4、ArF光刻膠的產業(yè)化研究。

公告中提到，ArF光刻膠材料可以用于90nm-14nm甚至7nm技術節(jié)點的集成電路制造工藝，廣泛應用于高端芯片制造（如邏輯芯片、 存儲芯片、AI 芯片、5G 芯片和云計算芯片等）。長期以來， 國內高端光刻膠市場長期為國外巨頭所壟斷，對國內芯片制造具有“卡脖子” 風險。盡快實現先進光刻膠材料的全面國產化和產業(yè)化，具有十分重要的戰(zhàn)略意義和經濟價值。

南大光電表示，在項目驗收過程中，專家組依據有關規(guī)定，聽取了該公司關于項目任務及財務執(zhí)行完成情況匯報、現場測試組的測試報告、用戶報告、審計報告及預算調 劑申請報告等，查閱了檔案資料，經過質詢和討論，一致認定項目已經完成了任務合同書中規(guī)定的各項考核指標。專家組同意項目通過績效評價驗收。

驗收專家組認為：

1、光刻膠是集成電路生產過程中的關鍵材料，通過本項目的實施，掌握了ArF干式和浸沒式系列光刻膠產品的原材料制備、配膠、分析檢測、應用驗證等關鍵技術，在知識產權和人才培養(yǎng)等方面取得重要進展。

形成了由51人組成的ArF光刻膠研發(fā)與生產管理團隊，建成了ArF光刻膠產品（包括干式和浸沒式）的質量控制平臺、年產5噸的干式 ArF光刻膠及年產20噸的浸沒式ArF光刻膠產業(yè)化生產線；建立了科研經費管理相關的財務制度，并能有效執(zhí)行；申請專利91項，其中國內發(fā)明專利81項，國際發(fā)明專利4項，實用新型專利6項（已授權），制定團體標準3項，研制新產品2項；實現ArF光刻膠產品銷售，完成了任務合同書規(guī)定的主要考核指標。這是我國集成電路關鍵材料自主創(chuàng)新的一個重要成果。

2、寧波南大光電已建成年產25噸ArF光刻膠產業(yè)化基地，具備進一步擴大生產的能力，建議抓住機遇，盡快擴產。

南大光電表示，項目研發(fā)任務的完成，預計將對該公司光刻膠事業(yè)的未來發(fā)展產生積極影響。

不過，公告中也提示風險稱，目前ArF光刻膠產品尚未實現規(guī)?；慨a。ArF光刻膠的復雜性決定了其在穩(wěn)定量產階段仍然存在工藝上的諸多風險，不僅需要技術攻關，還需要在應用中進行工藝的改進、完善。同時，ArF光刻膠產品國產化替代受品質、客戶的嚴格要求，后續(xù)是否能取得下游客戶的大批量訂單，能否大規(guī)模進入市場仍存在較多的不確定性。這些都會影響ArF光刻膠的量產規(guī)模和經濟效益。

眼下，全球半導體光刻膠市場主要被日本企業(yè)高度壟斷，并且在越高端的市場壟斷地位越明顯。目前，全球半導體光刻膠龍頭廠商是TOK（東京應化）、信越化學、JSR（日本合成橡膠）、住友化學、富士膠片等日企和美國陶氏化學，這些龍頭企業(yè)總計占據各半導體光刻膠細分領域超過85%市場份額，其中頭部日企在各個細分領域都占據主導地位。最先進的EUV光刻膠領域則完全被日企所主導，日本的JSR、TOK、信越化學成為EUV光刻膠市場上僅有的實現量產的廠商。

全球光刻膠市場格局 華泰證券2020年11月研報截圖

今年5月，南大光電曾在業(yè)績說明會上透露，該公司ArF光刻膠性能上和日本產品達到同等水平，并實現了ArF光刻膠的本土化，打破了被國外長期壟斷的被動局面，已經拿到國內光刻膠的首個訂單，實現小批量銷售，“用于質量檢測的光刻機等量測設備是國外進口的，我們已經配備了，運轉良好，沒有被卡的顧慮。主要原材料是自己開發(fā)和生產的，沒有被卡風險。生產設備是聯(lián)合國內企業(yè)研制的，也不存在被卡風險”。

2020年，南大光電營收5.95億元，同比增長85.13%；凈利潤0.87億元，同比增長58.18%；扣非凈利潤為212萬元，同比下滑94.25%；研發(fā)投入為2.3億元，（含資本化部分）同比增長247.54%，占營收比重為38.98%。

從財報來看，光刻膠項目尚未給南大光電貢獻營收，該公司主要營收來自MO源產品（占比20.21%）和特氣產品（占比72.18%）。

財報介紹，MO源系列產品是制備LED、新一代太陽能電池、相變存儲器、半導體激光器、射頻集成電路芯片等的核心原材料，在半導體照明、信息通訊、航空航天等領域有極其重要的作用；而電子特氣是“集成電路、平面顯示器件、化合物半導體器件、LED、太陽能電池、光纖等電子工業(yè)生產中必不可少的基礎和支撐性材料”。

2020年財報截圖

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