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可用于7nm芯片光刻膠通過客戶驗證,南大光電巨量收漲8%
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呂棟寧靜致遠。
最后更新: 2020-12-20 09:35:37觀察者網·大橘財經訊(文/呂棟 編輯/尹哲)在集成電路制造領域,光刻機被稱為是推動制程技術進步的“引擎”,而光刻膠就是“燃料”。
未來幾年,隨著中芯國際、長江存儲、長鑫存儲等晶圓廠進入產能擴張期,高端光刻膠的國產化替代迎來重要窗口。
12月17日晚間,南大光電公告披露,其控股子公司寧波南大光電材料有限公司(下稱:寧波南大光電)自主研發(fā)的ArF光刻膠產品近日成功通過客戶使用認證,可用于90nm-14nm甚至7nm技術節(jié)點。
“本次產品的認證通過,標志著‘ArF光刻膠產品開發(fā)和產業(yè)化’項目取得關鍵性的突破,成為國內通過產品驗證的第一只國產ArF光刻膠,為全面完成項目目標奠定堅實的基礎。”公告中寫道。
南大光電內部人士今天在接受觀察者網采訪時透露,ArF光刻膠生產線已建成,可根據(jù)客戶需要量產。
受上述消息影響,創(chuàng)業(yè)板上市的南大光電今天高開近14%,最終收漲8%,成交額接近16億元,而該公司收盤時的市值為146億元。
不過,需要注意的是,截至今年上半年,光刻膠業(yè)務還未給南大光電貢獻營收。該公司坦言,ArF光刻膠存在穩(wěn)定量產周期長、風險大等特點,后續(xù)是否能取得下游客戶訂單存在較多不確定性。
最近三年,南大光電凈利潤增速驟降,2019年扣非凈利潤僅為上市前的五分之一,而過去兩年來該公司股價漲幅達523%。
公告截圖
量產階段仍存諸多風險
觀察者網梳理相關資料發(fā)現(xiàn),光刻膠是一種對光敏感的混合液體,可以通過光化學反應,經曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩(掩模版)轉移到待加工基片上。
依據(jù)使用場景,待加工基片可以是集成電路材料、顯示面板材料或者印刷電路板(PCB)。
因此,按應用領域分類,光刻膠又可分為PCB光刻膠、顯示面板光刻膠、半導體光刻膠及其他光刻膠。目前,國產光刻膠以PCB用光刻膠為主,顯示面板、半導體用光刻膠供應量占比極低。
浙商證券2020年4月研報截圖
作為技術難度最大的光刻膠品種,半導體光刻膠也是國產與國際先進水平差距最大的一類。
長時間以來,為滿足集成電路對密度和集成度水平的更高要求,光刻機不斷通過縮短曝光波長的方式,提高極限分辨率。
目前,光刻機光源波長由紫外寬譜逐步縮短至g線(436nm)、i線(365nm)、KrF(248nm)、 ArF(193nm)、F2(157nm),以及最先進的EUV(<13.5nm)線水平。
本次南大光電通過客戶認證的光刻膠,就是ArF光刻膠。
國元證券2019年1月研報截圖
南大光電表示,ArF光刻膠材料可以用于90nm-14nm甚至7nm技術節(jié)點的集成電路制造工藝,廣泛應用于高端芯片制造(如邏輯芯片、 AI芯片、5G芯片、大容量存儲器和云計算芯片等)。
認證評估報告顯示,“本次認證選擇客戶50nm閃存產品中的控制柵進行驗證,寧波南大光電的ArF光刻膠產品測試各項性能滿足工藝規(guī)格要求,良率結果達標?!?
南大光電認為,本次通過客戶認證的產業(yè)化意義大。
“本次驗證使用的50nm閃存技術平臺,在特征尺寸上,線制程工藝可以滿足45nm-90nm光刻需求,孔制程工藝可滿足65nm-90nm光刻需求,該工藝平臺的光刻膠在業(yè)界有代表性?!惫嬷蟹Q。
至于為何選在50nm閃存產線驗證,南大光電內部人士向觀察者網表示,該公司產品分別在不同客戶處驗證,有邏輯有存儲的。因為存儲的先通過,就先公告,其他的還在努力中。
不過,該人士并未向觀察者網透露,公告中的客戶是國內或者國外廠商。
IC光刻流程圖
目前,全球光刻膠市場基本被美日大型企業(yè)壟斷,中國大陸內資企業(yè)所占市場份額不足10%。
2019年,日韓貿易爭端中,日本就曾通過禁運光刻膠對整個韓國半導體行業(yè)造成打擊。
為支持國內企業(yè)加大光刻膠開發(fā)力度,2000年以來,我國出臺多項政策支持半導體行業(yè)發(fā)展。
2006年,國務院在《國家中長期科學和技術發(fā)展規(guī)劃綱要(2006-2020年)》中提出《極大規(guī)模集成電路制造技術及成套工藝》項目,因次序排在所列16個重大專項第二位,在業(yè)內被稱為“02專項”。
公告顯示,“ArF光刻膠產品開發(fā)和產業(yè)化”就是南大光電承接國家“02 專項”的一個重點攻關項目。
券商統(tǒng)計的信息顯示,南大光電2017年承接的ArF光刻膠項目總投資額為6.6億元,其中國撥資金1.9億元,地方配套資金1.97億元,使用上市時的超募資金1.5億元及其他自籌資金。
該項目擬通過3年達到年產25噸ArF干式和浸沒式光刻膠產品的生產規(guī)模,預計達產后年銷售收入平均為1.48億元,實現(xiàn)凈利潤0.6億元,投資回收期6.8年(包含3年建設期),內部報酬率為18%。
截至今年上半年,光刻膠業(yè)務尚未給南大光電貢獻營收。
該公司在公告中表示,ArF光刻膠產品與客戶的產品銷售與服務協(xié)議尚在協(xié)商之中。
“尤其是ArF光刻膠的復雜性決定其在穩(wěn)定量產階段仍然存在工藝上的諸多風險,不僅需要技術攻關,還需要在應用中進行工藝的改進、完善,這些都會決定ArF光刻膠的量產規(guī)模和經濟效益?!?
深交所互動易截圖
- 責任編輯: 呂棟 
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